平成26年度科学技術人材育成費補助事業 「科学技術人材育成のコンソーシアムの構築事業」

平成30年度SCR超微細加工プロセスコースの内容を紹介します

8月1日~3日にわたり行われた産総研SCR超微細加工プロセスコースの内容を紹介します。今回の参加者は9名でした。

【プログラム】
8月1日 午前
ガイダンス 午後 MOSFET概論(講義)、SCR見学

8月2日 午前 先端デバイス(講義) 午後 SRM実演、CMP実演、バックエンド(講義)
8月3日 午前 先端リソグラフィ(講義)、リソグラフィ:KrF露光装置(実習) 午後 リソグラフィ:CDSEM(実習)、データ解析、レポート作成、アンケート、修了式

修了式後、参加者全員で記念撮影。皆様お疲れさまでした。





感想(抜粋)

∗ 受講前はリソグラフィ、バックエンドに関してあまり興味はなかったが、かなり大事な部分を担っ

   ているということに気付いた。

∗ 仕事上、積層についてはある程度の知識はあったが、テンションをかけることで特性が変化する

   等の新たな情報を得ることができた。

∗ MOSFET製造過程一連を学ぶことができた。

∗ 最先端の技術動向をまとまった形で聞くまたとない機会であり、実習があることで講義の内容と

   結びつけて理解できた。

∗ プロセスの基本から難易度の高いところまで見渡すことができ、自分が関わる装置の立ち位置を

   確認できた。

∗ 装置実演は、様々なプロセス装置を知るという意味で非常にためになった。

∗ リソ、CMPの実動、ユーザーオペレーションが分かったので、座学と合わせて理解が深まった。

∗ 産総研、他社の方と交流し、色々な話が聞けたこと。