平成26年度科学技術人材育成費補助事業 「科学技術人材育成のコンソーシアムの構築事業」

平成27年度京都大学NIP電子線描画装置アドバンスコースの様子を紹介します

平成27年度に開催した電子線描画装置アドバンスコースの様子を紹介します。
講義は3月7日~8日、実技実習は9日~10日、23日~24日の2組に分かれて行われました。

講義

電子線リソグラフィー技術のまとめ、近接効果とその補正、CP方式電子線描画装置の構造・設計、動作原理、操作方法について講義が行われました。





実技講習
後半の2日間(2組に分かれて行った)、半導体デバイスに使われるT-gate電極作製を目標にして、3層レジスト構造を作り、大面積超高精度電子線描画装置を用いて描画・パターニング後、Cr/Auを蒸着しT-gate電極構造を作製した。最終的にSEM観察を行い、設計通りの構造体が作製できたことを確認した。(Fig.1,Fig.2)


Fig1 Top view of T-gate pattern

Fig2 cross section T-gate (A-A)
















感想(抜粋)

∗ 3層レジストを用いたT-gate形成プロセスは、電子ビーム露光の経験がある私にとっても、大変

   興味を惹かれる実習でありました。2日間実習を行っていただき、ありがとうございました。

∗ 入門コースに引き続きアドバンストコースも楽しく参加させて頂きました。また楽しいだけでな

   く、講義での様々な知識や実習での装置の扱い方また実際に起こる問題点などたくさんのことを

   学ぶことができたと思います。

∗ Thank you very much for giving me a chance to join the Advance Course (short term)

   on Electron Beam Lithography Technologies. It is very useful, I learned a lot from this

   lecture. The instructors are very kind and eager for explaining all our questions.

   (電子線描画装置アドバンスコース(短期)に参加する機会を与えて頂き、ありがとうございまし

   た。当コースは大変有用で、実り多いものでした。指導員の方はとても親切で、質問に対して積

   極的に説明して下さいました。)